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Advances in Plasma-Grown Hydrogenated Films
Elsevier, Academic Press
V. M. Agranovich
,
Deborah Taylor
deposition
plasma
hydrogen
phys
films
discharge
rate
silane
ions
density
electron
nitrogen
appl
silicon
si:h
surface
amorphous
figure
frequency
deposited
electrode
temperature
increase
shown
substrate
layer
methods
sill4
content
mhz
observed
function
utrecht
hydrogenated
radicals
reactor
reported
species
electrons
sill3
sark
fraction
reaction
decrease
range
solar
regime
increasing
bonds
partial
Année:
2001
Langue:
english
Fichier:
PDF, 12.98 MB
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english, 2001
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